7月7-10日，2025势银（第五届）光刻产业大会在合肥新站利港喜来登酒店正式举行。此次光刻产业大会，旨在汇聚国内光刻技术领域的专家学者、企业代表、行业精英，共同探讨先进光刻技术、光刻材料及设备的最新进展、面临的挑战以及解决方案，我司总经理王野参与此次大会并发表主题演讲》

大会现场

本次会议讨论内容涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿光刻技术的最新研究进展与应用前景；同时，深入剖析光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等光刻材料的国产化现状与技术瓶颈，探讨如何通过技术创新与产业升级，提升国内光刻材料的自给率与质量水平。此外，光刻设备作为半导体制造的核心装备，其国产化进程中的关键问题与解决方案也是讨论重点，包括设备研发、制造工艺、性能提升以及市场情况等。

主题演讲

我司总经理王野发表“光刻机在中国市场的机遇与挑战”主题演讲，提出我国国产光刻机的未来发展，需要打破藩篱，开放共生，构建光刻机产业命运共同体。在技术攻坚层面重点突破精密运动及控制、高精度对准系统，整机控制；同时建立生态协同，并通过设备贸易积累技术经验；积极进行人才培育，为光刻机国产化做足储备。

共探光刻产业未来

通过大会，可以促进产学研用的深度融合，加强国内科研机构、高校、企业之间的交流与合作，加速技术创新和成果转化，推动光刻技术及相关产业的升级发展，构建完整的产业生态体系，提升光刻产业的整体竞争力。芯东来半导体也会不断创新，积累技术经验，积极进行人才培育，为光刻机国产化贡献一份力量。