芯东来亮相2025智能微系统研讨会|总经理王野发表“光刻工艺助力MEMS器件突破”主题演讲
发布时间:2025-10-29 15:04:16 作者: 芯东来半导体
芯东来亮相2025智能微系统研讨会

20251018日,由清华大学主办的行业盛会——2025智能微系统研讨会在北京怀柔隆重举行。作为国内智能微系统领域的重要参与者,北京芯东来公司受邀出席本次大会,公司总经理王野先生在会议上发表了题为 “光刻工艺助力MEMS器件突破” 的主题演讲,与在场院士、顶尖学者及产业领袖共话前沿技术,展现了芯东来在创新浪潮中的硬核实力。

本届大会以 “智能微系统:器件突破、系统创新” 为核心主题,汇集了来自学界与产业界的十余位权威专家。会议期间,中国工程院院士尤政、蒋庄德等多位重磅嘉宾为大会致辞,共同展望通过产学研深度融合,推动智能微系统技术在关键领域的突破与落地。

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在大会特邀报告环节,芯东来公司总经理王野先生的技术分享成为连接产业实践与学术前沿的焦点。他围绕 “光刻工艺助力MEMS器件突破” 这一主题,系统介绍了我司在i-lineKrF等核心光刻机技术方面的领先解决方案,并深入阐述了这些先进光刻工艺在显著提升MEMS器件的灵敏度与可靠性方面的巨大应用潜力。该报告内容扎实、前瞻性强,获得了在场专家学者及产业同行的广泛关注与高度认可。

从开幕式、特邀报告到技术参观,本次研讨会为整个行业提供了宝贵的交流契机。正如尤政院士在闭幕词中所期许的,芯东来也将以此次技术展示为新的起点,与业界同仁一道,持续致力于以先进光刻工艺为代表的核心技术创新与产业转化,为助力我国智能微系统领域实现更大的发展与突破贡献自身力量。

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