- 高产率

采用新型、高强度照明系统，缩短步进和对准时间，实现最高产率110pcs/h （200mm Wafer）

- 高分辨率镜头

采用高NA投影镜头，结合新型照明技术，可实现300nm或更高分辨率。

- 整体对准精度

精密运动台配置高精度干涉仪系统测量系统。配合高精度测量系统与先进的控制算法，实现机台高套刻精度。

- 精致的操作界面

通过工作站、大尺寸显示器、多窗口显示实现用户友好的操作环境。多种测量评估和维护软件搭配为用户提供正确的测量与维护参考。

- 灵活的对准系统

提供正面场像对准系统、远红外对准系统及背面对准系统等多种对准选项配置，轻松应对不同曝光场景。