Canon KrF光刻机
Canon KrF光刻机采用248nm波长的KrF准分子激光作为曝光光源，是制造高性能半导体器件的关键设备。它凭借更为优异的对准精度，在从4英寸到12英寸的晶圆生产线上展现出卓越的工艺适应性与生产效率，为半导体制造商提供了高效灵活的解决方案。
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STi-301
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Canon I线光刻机
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