Nikon ArF光刻机采用193nm波长的ArF准分子激光作为曝光光源，广泛应用于先进半导体制造流程。该设备全面支持当前主流的12英寸晶圆生产，并兼容8英寸晶圆工艺，可有效实现更小的特征尺寸，助力芯片性能与集成度的持续提升。凭借其高精度与高效率的特点，尼康ArF光刻机为半导体制造商提供了可靠的高端光刻解决方案。