Nikon KrF光刻机以248nm波长的KrF准分子激光作为曝光光源，适用于更精细的半导体制程。该设备广泛用于制造高性能半导体器件，包括微处理器、动态随机存取存储器（DRAM），以及复杂的逻辑和混合信号芯片等。这类光刻机是实现高精度半导体制造的关键装备，在4英寸、6英寸、8英寸和12英寸晶圆生产线中均发挥重要作用，为半导体制造商提供了高效的生产能力与工艺灵活性。